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簡體中文| English   5. 20,2024




APCVD - N2 SHIELD
N2-Shield 應用於半導體大氣壓化學汽相沉積設備製程中,本公司的N2-Shield採一體成型,無螺絲設計,增加使用壽命,延後定期保養的時程,提高產能利用率。N2 Shield的網面部分採特殊的加工法製成,每一網洞的大小及形狀均一,使得我們的裝置在均勻度及沉積率方面的表現非常好,這是由我們許多的客戶驗證的結果,另外在各接縫處加強焊接,經由多層次的製程及清潔程序後裝置的兩側檔片亦不會因氫氟酸的強力清洗而脫落。
N2 Shield
N2-Shield 應用於半導體APCVD製程中,本公司的N2-Shield採一體成型,無螺絲設計,增加使用壽命,延長PM的Cycle Time,Shiled的網面部分採特殊的加工法製成,每一網洞的大小及形狀均一,使得我們的Shield在均勻度及沉積率方面的表現非常好,這是由我們許多的客戶驗證的結果 ...